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光催化氧化設(shè)備的工藝原理具體介紹如下：
1.利用高能高臭氧紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。
2.高能離子空氣凈化系采用正負(fù)雙極電離技術(shù)，在電場(chǎng)作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的a粒子，a粒子與空氣中的氧分子進(jìn)行碰撞而形成正負(fù)氧離子。
3.催化劑（二氧化鈦）在受到紫外線(xiàn)光照射時(shí)生成化學(xué)活潑性很強(qiáng)的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機(jī)物，達(dá)到降解有機(jī)物的作用。
4.無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
5.運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低。
